Silīcija karbīda ražošana
Forma: gabaliņu/pulvera forma
Silīcija karbīda pulveris ugunsizturīgam
Apraksts
Apraksts
Silīcija karbīds jeb SiC ir kļuvis par kritisku materiālu nākamās paaudzes tehnoloģiju izstrādē, pateicoties tā unikālajām īpašībām — augstai siltumvadītspējai, augstai termiskā triecienizturībai un izcilām elektriskām īpašībām.
SiC tiek plaši izmantots dažādās nozarēs, piemēram, spēka elektronikā, automobiļu rūpniecībā, aviācijā un aizsardzībā, jo tas spēj darboties augstākā temperatūrā un spriegumos, salīdzinot ar tradicionālajiem materiāliem.
Agrāk SiC bija pieejams tikai nelielos daudzumos, un to bija grūti ražot augstās temperatūras un nepieciešamā spiediena dēļ. Tomēr līdz ar jaunākajiem tehnoloģiskajiem sasniegumiem SiC ražošana ir kļuvusi efektīvāka un rentablāka.
Specifikācija
| Modelis | Komponentu procenti | |||
| 60# | Pik | F.C | Fe2O3 | |
| 65# | 60 min | 15-20 | 8-12 | 3,5 maks |
| 70# | 65 min | 15-20 | 8-12 | 3,5 maks |
| 75# | 70 min | 15-20 | 8-12 | 3,5 maks |
| 80# | 75 min | 15-20 | 8-12 | 3,5 maks |
| 85# | 80 min | 3-6 | 3,5 maks | |
| 90# | 85 min | 2,5 maks | 3,5 maks | |
| 95# | 90 min | 1.{1}}maks | 1,2 maks | |
| 97# | 95 min | 0.6 maks | 1,2 maks | |
SiC ražošana ietver divus galvenos procesus: ķīmisko tvaiku pārklāšanu un saķepināšanu. Ķīmiskā tvaiku pārklāšana ietver SiC slāņa augšanu uz pamatnes augstā temperatūrā un zemā spiedienā. No otras puses, saķepināšana ietver SiC pulvera konsolidāciju ar karstumu un spiedienu, veidojot cietu SiC materiālu.
Ir pieejami dažādi SiC ražošanas paņēmienu veidi, tostarp sublimācijas process, modificēta Lely metode un PVT augšanas metode. Katrai no šīm metodēm ir savas priekšrocības un trūkumi, un metodes izvēle ir atkarīga no konkrētā pielietojuma un prasībām.
Sublimācijas process ietver SiC pulvera karsēšanu grafīta tīģelī augstā temperatūrā, izraisot pulvera sublimāciju un nogulsnēšanos uz substrāta. Šī metode ir piemērota augstas tīrības pakāpes un augstas kvalitātes SiC kristālu ražošanai.
Modificētā Lely metode ietver SiC pulvera un grafīta maisījuma karsēšanu tīģelī, izraisot SiC nogulsnēšanos uz sēklu kristāla. Šī metode ir ideāli piemērota vienkristāla SiC vafeļu ražošanai elektroniskām vajadzībām.
PVT augšanas metode ietver SiC kristālu audzēšanu no sēklu kristāla augstā temperatūrā un spiedienā. Šī metode ir ieteicama lielu, augstas kvalitātes SiC kristālu ražošanai spēka elektronikas lietojumiem.
Visbeidzot, SiC ražošanai ir būtiska loma nākamās paaudzes tehnoloģiju attīstībā. Līdz ar ražošanas metožu attīstību SiC ražošana ir kļuvusi rentablāka un efektīvāka. Ražošanas metodes izvēle ir atkarīga no konkrētā pielietojuma un prasībām, un SiC, pateicoties savām unikālajām īpašībām, var radīt revolūciju dažādās nozarēs.
FAQ
J: Vai jūs esat rūpnīca vai tirdzniecības uzņēmums?
A: Mēs esam ražotājs.
J: Cik ilgs ir jūsu piegādes laiks?
A: Piegādes laiks atkarībā no jūsu pirkuma daudzuma un ražošanas sezonas.
J: Kāds ir jūsu piegādes veids?
A: Pēc jūsu pieprasījuma ir pieejama eksprespiegāde, jūras piegāde.
Populāri tagi: silīcija karbīda ražošana
Nosūtīt pieprasījumu
Jums varētu patikt arī
